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基礎(chǔ)信息Product information
產(chǎn)品名稱：KEMET研磨拋光機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)：
更新時(shí)間：2025-06-09
產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
KEMET研磨拋光機(jī)：XJ24，XJ36研磨拋光機(jī)XJ56單面研磨拋光機(jī)DS16B，DS18B雙面研磨拋光機(jī)SPECTRAL 250研磨機(jī)SPECTRAL 350研磨機(jī)Digiprep Velox全自動(dòng)可編程研磨拋光系統(tǒng)
產(chǎn)品特性Product characteristics
KEMET研磨拋光機(jī)Digiprep Velox全自動(dòng)可編程研磨拋光系統(tǒng)
英國(guó)進(jìn)口DIGIPREP Velox自動(dòng)可編程磨削和拋光系統(tǒng)提供4個(gè)研磨/拋光臺(tái)（1個(gè)粗磨，1個(gè)精磨和2次拋光），可容納250 mm直徑的車輪以及300 mm。 直徑輪。 研磨/拋光站可以根據(jù)磨料的具體要求獨(dú)立配置。 無(wú)振動(dòng)，堅(jiān)固的鋼結(jié)構(gòu)確保非常平坦的試樣表面。
全自動(dòng)可編程研磨/拋光系統(tǒng)Digiprep Velox ，高速磨床在100 - 1200 RPM之間變化，可以快速平面/磨削樣品表面。 對(duì)于精細(xì)研磨和拋光站，50-600 RPM之間的可變速度使其適用于各種材料的研磨和拋光。 每個(gè)站可以配置為具體的磨料要求。 水，直接懸浮液，金剛石潤(rùn)滑劑，氧化鋁和膠體二氧化硅分配通過觸摸屏*集成和控制。
拋光系統(tǒng)
Servo電機(jī)驅(qū)動(dòng)頭從一步到下一步自動(dòng)確保zui高水平的精確度和重復(fù)性。 自動(dòng)頭可以同時(shí)應(yīng)用“中央”和/或“個(gè)人”力量。 它可以調(diào)整單個(gè)樣品以及多樣品保持器，從而為所有級(jí)別的樣品通量要求提供*的解決方案。 內(nèi)置的編碼器可以讓您測(cè)量從表面去除的材料量。 可以設(shè)置所需的研磨深度以研磨不同類型的樣品，也可以設(shè)計(jì)為需要特殊精度的應(yīng)用。
可以保存具有相關(guān)樣品名稱或編號(hào)的25種不同制備程序的圖書館，其中可以隨時(shí)調(diào)用每個(gè)研磨/拋光站的所有參數(shù)。 在循環(huán)完成后，聲信號(hào)使操作員知道循環(huán)結(jié)束，樣品準(zhǔn)備好進(jìn)行分析。 當(dāng)需要時(shí)，也可以干預(yù)程序并更改參數(shù)，而不會(huì)停止儀器。
帶有水和乙醇的全自動(dòng)樣品清洗站是全自動(dòng)可編程研磨/拋光系統(tǒng)DIGIPREP Velox的標(biāo)準(zhǔn)配件。 可選的超聲波清洗可以*清除所有痕跡的污染物，緊緊貼合或嵌入樣品表面。 當(dāng)液位不足時(shí)，超聲波清洗站液體的連續(xù)監(jiān)測(cè)和自動(dòng)重新灌裝。 在完成zui終清潔過程之后，將樣品架置于熱空氣干燥器上方進(jìn)行干燥處理。 清潔和干燥步驟可以分別為每個(gè)研磨/拋光站編程。
兩個(gè)內(nèi)置的蠕動(dòng)分配器位于機(jī)柜中，每次保證*相同的劑量。 可以加入金剛石懸浮液I lu-bricants和氧化鋁懸浮液。 點(diǎn)膠參數(shù)如 頻率，流體選擇等通過Digiprep Velox的程序存儲(chǔ)器進(jìn)行控制。 每個(gè)分配器具有3個(gè)蠕動(dòng)泵用于金剛石懸浮液I潤(rùn)滑劑和1個(gè)泵用于zui小氧化物懸浮液。 液體被精確地配給操作者在拋光布上想要的位置。 不會(huì)發(fā)生汽化或噴霧。
KEMET研磨拋光機(jī)Digiprep Velox全自動(dòng)可編程研磨拋光系統(tǒng)
工作臺(tái)4 Grinding/Polishing
試樣凈化水+乙醇
超聲波清洗可選
試樣干燥熱風(fēng)干燥機(jī)
樣品架類型中央+個(gè)人
盤直徑,mmØ250 & Ø300
給料單位8蠕動(dòng)泵
粗磨轉(zhuǎn)速100 - 1200 RPM
精磨/拋光轉(zhuǎn)速50 - 600 RPM
基臺(tái)電機(jī)功率1.1 kW
機(jī)頭轉(zhuǎn)速50 - 150 RPM
機(jī)頭電機(jī)功率100 W
水平移動(dòng)系統(tǒng)Servo電機(jī)
手動(dòng)力5 - 70N
中央控制力30 - 500N
磨削深度測(cè)量傳感器是
HMI觸摸屏(inch)10”
循環(huán)冷卻系統(tǒng)2 x Enviro (可選)
信標(biāo)（警告燈）Yes,(3 colors)
尺寸, DXH (mm)2946 x 926 x 1791
重量(kg)1350
電壓400V-3phase-50Hz
XJ24，XJ36研磨拋光機(jī)XJ56單面研磨拋光機(jī)
標(biāo)準(zhǔn)配置
HMI控制
水冷卻磨盤
Kemet科密特復(fù)合研磨盤及SUS拋光盤
金剛石修整工具和刷子
全自動(dòng)金剛石液體噴射系統(tǒng)或者研磨漿控制泵及攪拌器
陶瓷夾具
機(jī)器保護(hù)罩
選配裝置
強(qiáng)制驅(qū)動(dòng)頭
微管泵
冷卻裝置
平面度測(cè)量?jī)x?
DS16B，DS18B雙面研磨拋光機(jī)
Kemet DS 雙面研磨及拋光機(jī)可進(jìn)行雙面研磨和拋光。
可廣泛應(yīng)用于多種材料的研磨拋光并 可使研磨后達(dá)到很小的公差及產(chǎn)品的 性能。
5 個(gè)夾具可在研磨和拋光時(shí)平穩(wěn)的運(yùn)轉(zhuǎn)。
研磨盤和夾具可通過交流變頻 器改變轉(zhuǎn)速。
定制的精磨、研磨或拋光盤可用 來優(yōu)化操作。
選配裝置
1. 全自動(dòng)厚度控制器
2. 測(cè)壓控制器
3. HMI 觸摸屏控制
樣品制備平面磨床
SPECTRAL 250研磨機(jī)是用于制備用于光譜學(xué)的鋼樣品的臺(tái)式便攜式表面研磨機(jī)。 它的緊湊設(shè)計(jì)，無(wú)振動(dòng)操作使其成為一個(gè)實(shí)用的工具。 低噪聲和粉塵產(chǎn)生水平以及排塵器的標(biāo)準(zhǔn)出口是額外的優(yōu)點(diǎn)。
250 mm研磨盤動(dòng)態(tài)平衡，平穩(wěn)運(yùn)行。 研磨紙被吸入研磨盤，不需要任何膠水。具有40-120粒度的紙張可用于獲得所需的表面質(zhì)量。 研磨盤被蓋子的一半覆蓋，只允許在一個(gè)部分進(jìn)行研磨。安全開關(guān)確保蓋子打開時(shí)自動(dòng)關(guān)閉。
用于光譜分析的SPECTRAL 350用于獲得鋼鐵樣品的精密平面。 堅(jiān)固，無(wú)振動(dòng)的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)用于在高采樣量下連續(xù)運(yùn)行。
SPECTRAL 350研磨機(jī)系列儀器可作為單盤和雙盤單元，具有350mm的車輪尺寸，可平穩(wěn)運(yùn)行平衡。 由于其特殊設(shè)計(jì)，砂紙被吸入研磨盤，不需要任何膠水。
SPECTRAL 350系列除了特殊的設(shè)計(jì)之外，還配備了強(qiáng)力的抽吸裝置，增加了將磨料紙保留在盤上的抽吸真空度，無(wú)需任何粘合劑或固定附件。 因此，研磨紙可以在其寬度上使用，并且非常容易交換。 具有火花塞的綜合除塵系統(tǒng)可實(shí)現(xiàn)無(wú)塵操作。
研磨盤由蓋子中途覆蓋，并且金屬片材僅允許在一段中進(jìn)行磨削，以便操作者舒適和保護(hù)。
機(jī)器配有互鎖的安全裝置。 打開蓋子或按下緊急按鈕時(shí)，電機(jī)立即停止。
Spectral 350系列的zui基本的單元，具有2800 rpm固定速度的光譜350-1單盤式研磨機(jī)。
光譜350-2雙盤式研磨機(jī)具有兩個(gè)固定速度為2800 rpm的光盤。
光譜350-2S具有兩個(gè)研磨盤，雙速速度為1400和2800 rpm。 這是zui*的研磨機(jī)，特別是對(duì)于具有各種材料的鑄造廠或鋼廠。
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